1月13日，A股光刻機概念走高，多只概念股上漲。截至收盤，茂萊光學上漲15.23%，永新光學上漲8.70%，波長光電上漲6.87%，國林科技上漲6.78%，東方嘉盛上漲6.11%。

消息面上，日前，美國商務部工業和安全局（BIS）修訂了《出口管理條例》，涉及中國、緬甸和巴基斯坦等三個國家的13家實體，而中國實體占其中11家。其中，涉及中國科學院長春光學精密機械與物理研究所與中國科學院上海光學精密機械研究所，此外，還有多家從事光學元件開發的企業也被納入名單。

根據公開資料，長光所和上光所是光刻機產業鏈的“排頭兵”。

國內外各具優勢

光刻機，又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。而光刻機行業則是一個高度技術密集型和資本密集型的行業，其發展水平直接反映了一個國家在半導體制造領域的實力。

隨著半導體產業的快速發展，光刻機的市場需求不斷增長，市場規模持續擴大。為了滿足半導體工藝對更小線寬和更高集成度的需求，光刻機的技術升級速度不斷加快，市場競爭也日益激烈。

目前，國外先進光刻機廠商擁有更強大的技術研發能力和生產制造能力，其產品通常具有更高的分辨率、更小的制程尺寸以及更好的穩定性和可靠性。相比之下，國內光刻機在技術方面還有一定的差距，但正在逐步縮小。

相反的，國內光刻機在價格上具有一定的競爭優勢，因為國內制造商的成本控制能力和生產規模較大，能夠以更低廉的價格提供光刻機設備。

中國企業厚積薄發

在高端光刻機領域，特別是極紫外（EUV）光刻機方面，ASML（阿斯麥）處于絕對領先地位。公開資料顯示，ASML是目前全球唯一能制造極紫外光刻機的企業，其EUV光刻機在全球市場中占據了100%的份額。

此外，蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徠卡、奧林巴斯等國際企業在全球工業級精密光學市場中占據了超過70%的市場份額。這些企業雖然不專注于光刻機制造，但也在相關領域擁有強大的技術實力和市場份額。

對比來看的話，在全球光刻機市場中，目前中國企業的占比較低。其中，上海微電子是中國光刻機的絕對龍頭，出貨量已占國內市場份額超過80%。其產品主要涉及ArF、KrF和i-line領域，已具備90nm及以下的芯片制造能力。

近年來，隨著國家政策的扶持和行業的發展，中國光刻機企業正在逐步崛起。

2024年，工業和信息化部等七部門聯合發布《關于推動未來產業創新發展的實施意見》，旨在推動有色金屬、化工、無機非金屬等先進基礎材料升級，發展高性能碳纖維、先進半導體等關鍵戰略材料，并加快超導材料等前沿新材料創新應用。這為光刻機所需的半導體材料等領域提供了發展指導，有助于提升光刻機制造的原材料水平。

2023年，河北省發布《加快建設數字河北行動方案（2023-2027年）》，該方案旨在加快石家莊信息產業集群建設，完善半導體材料、集成電路、衛星互聯網等產業鏈條，推動重大項目建設，打造千億級電子信息產業集群。

此外，國家不定期發布行業稅收優惠，資金支持等政策，并設立科技研發專項基金，都在為半導體行業發展助力，提升整個產業鏈水平。

國內企業取得技術突破

上述提到，上海微電子是中國光刻機領域的領軍企業。在全球后道光刻機市場，上海微電子占有率高達37%，在中國市場的占有率更是高達85%。

此外，華卓精科、國科精密、浙江啟爾機電、東方晶源、沈陽芯源微、大族激光和福晶科技等，這些企業在光刻機整機、關鍵零部件、曝光系統、浸液系統等方面取得了顯著進展，為國產光刻機的發展提供了重要支持。

股價在今天實現上漲的茂萊光學是國內稀缺的工業級精密光學綜合解決方案提供商。公司為光刻機光學系統提供用于勻光、中繼照明模塊的光學器件、投影物鏡，以及用于工件臺位移測量系統的棱鏡組件，是光刻機實現光線均勻性與曝光成像的關鍵模塊。

在半導體應用領域，波長光電則已具備提供光刻機配套的大孔徑光學鏡頭的能力。公司成功開發的光刻機平行光源系統可用于國產光刻機領域配套，并已交付多套系統用于接近式掩膜芯片光刻工序。

炬光科技成立多年來一直為半導體光刻應用領域提供光刻機曝光系統中的核心激光光學元器件——光場勻化器，供應給世界頂級光學企業A公司，最終應用于全球高端光刻機生產商的核心設備。同時，公司與國內在這一領域的研發單位有廣泛合作，公司的光場勻化器產品應用于國內主要光刻機研發項目和樣機中。